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2011年9月1日-2011年度中(zhong)(zhong)國科(ke)學院(yuan)院(yuan)級獎(jiang)學金評(ping)審(shen)結果近期公布,等(deng)離(li)子體所(suo)秦經剛、胡覺和胡君三(san)位(wei)博士(shi)生獲得本年度“中(zhong)(zhong)國科(ke)學院(yuan)院(yuan)長獎(jiang)”;盛國棟(dong)博士(shi)生獲得“。
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2009年10月2日-等離(li)子是(shi)一種(zhong)自發(fa)光顯示技(ji)術,不(bu)需要背景光源,因此(ci)沒有LCD顯示器的視角和房(fang)產(chan)金(jin)九發(fa)力廣州一手樓量價齊升(sheng)升(sheng)價盤仍占(zhan)37%游戲《蟲。
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2011年1月14日-火焰切割(ge)、等(deng)離子(zi)切割(ge)、激(ji)光切割(ge)是(shi)目前金(jin)屬切割(ge)的三(san)種方式。作為中(zhong)國的工程機(ji)械制造商,三(san)一重工有限公司通(tong)過采用海別得系統(tong)支持的機(ji)器(qi)人等(deng)離子(zi)切割(ge)裝(zhuang)置(zhi),。
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2011年1月14日-火焰切割、等(deng)離子(zi)切割、激光切割是目前(qian)金屬切割的(de)三種方(fang)式(shi)。伴(ban)隨著(zhu)企業對(dui)生產(chan)效(xiao)率和(he)生產(chan)成(cheng)(cheng)本的(de)考慮,等(deng)離子(zi)切割將會(hui)成(cheng)(cheng)為用戶的(de)重要選擇。
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2011年1月18日-火焰切(qie)割、等(deng)離子(zi)(zi)切(qie)割、激光切(qie)割是目前(qian)金屬切(qie)割的三種方式(shi)。伴(ban)隨著(zhu)企業對生產(chan)效(xiao)率和生產(chan)成本的考慮,等(deng)離子(zi)(zi)切(qie)割將會成為用(yong)戶(hu)的重要選擇。與(yu)2009年相比(bi),。
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2010年8月1日-如(ru)何挑選電(dian)視:買液晶還是(shi)等(deng)離(li)子電(dian)視,股(gu)吧,金融界(jie)愛(ai)股(gu),如(ru)何挑選電(dian)視:買液晶還是(shi)等(deng)離(li)子電(dian)視萬維(wei)家電(dian)網(wang)原創(chuang)作者:萬維(wei)家電(dian)網(wang)論壇(tan)整理(li)編輯:李樂。
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摘要:金(jin)核霉素(su)是由金(jin)色鏈霉菌(jun)經發酵產生的(de)核苷類(lei)抗生素(su)。主要用(yong)于防治由黃單胞菌(jun)屬(Xanthpmonas)引起(qi)的(de)農作物(wu)病害。利(li)用(yong)等離子(zi)注入技(ji)術進(jin)行了金(jin)核霉素(su)菌(jun)種選育,。
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2011年11月5日-數(shu)控(kong)切(qie)割(ge)機丨數(shu)控(kong)等(deng)(deng)離子(zi)切(qie)割(ge)機丨數(shu)控(kong)切(qie)割(ge)機價格丨數(shu)控(kong)切(qie)割(ge)機生(sheng)產廠(chang)家質量以及(ji)切(qie)割(ge)其(qi)他種(zhong)類金屬的能力(li)這一(yi)系列優勢,等(deng)(deng)離子(zi)成為(wei)眾(zhong)多金屬切(qie)割(ge)應用的理想之(zhi)選。
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2013年(nian)5月(yue)6日-Tekna-BIT獎(jiang)學金是(shi)由感應(ying)等離子科學與技術(shu)的(de)-泰克納(加拿(na)大)公司在(zai)北(bei)京理(li)工(gong)大學設(she)立(li)的(de)。該(gai)獎(jiang)學金為年(nian)度獎(jiang)學金,設(she)立(li)于2013年(nian),主旨在(zai)于鼓勵年(nian)輕研究。
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更(geng)新日(ri)期:2012-9-27,淄(zi)博(bo)瀚(han)(han)聲金屬表面工程有限公(gong)司(si),專業(ye)生產(chan)供應(ying)購買等(deng)離子噴(pen)涂當選山東(dong)淄(zi)博(bo)瀚(han)(han)聲金,13853399336,0533-5166796(來自一(yi)呼百應(ying)企(qi)業(ye)商鋪b2b.youboy.。
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SK5510是(shi)一種(zhong)在大(da)氣壓下(xia)工作的(de)(de)等離子(zi)表面處理裝置。它(ta)的(de)(de)革新性(xing)設計(ji)使得高壓和(he)摘要:1.噴(pen)射出的(de)(de)等離子(zi)體流為中性(xing),不帶電(dian)*,可(ke)以(yi)對各種(zhong)高分子(zi)、金。